特許
J-GLOBAL ID:200903045173904435

磁気力による擬似微小重力場を利用した浮遊溶融

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 工業技術院大阪工業技術研究所長 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-241337
公開番号(公開出願番号):特開2001-064100
出願日: 1999年08月27日
公開日(公表日): 2001年03月13日
要約:
【要約】【目的】 磁気力を擬似微小重力場に利用し、浮遊状態で被処理物質を溶融・冷却し、理想的な形状や表面をもつ材料を得る【構成】 勾配のある強磁場に被溶融物質6を配置し、磁場勾配で発生した磁気力で被溶融物質6を浮遊状態に維持し、加熱光源7からの光線又は熱線照射或いは抵抗加熱ヒータで浮遊状態にある被溶融物質加熱溶融する。次いで、光線又は熱線照射又はヒータ加熱を中止し、溶融した被溶融物質を浮遊状態のままで冷却する。
請求項(抜粋):
勾配のある強磁場に被溶融物質を配置し、磁場勾配により発生した磁気力で被溶融物質を浮遊状態に維持し、光線又は熱線照射或いは抵抗加熱ヒータで浮遊状態にある被溶融物質を加熱溶融し、次いで光線又は熱線照射又はヒータ加熱を中止し、溶融した被溶融物質を浮遊状態のままで冷却することを特徴とする擬似微小重力場を利用した浮遊溶融方法。
IPC (3件):
C30B 30/08 ,  C30B 11/00 ,  C30B 29/22
FI (3件):
C30B 30/08 ,  C30B 11/00 Z ,  C30B 29/22 C
Fターム (8件):
4G077AA01 ,  4G077AA02 ,  4G077CD10 ,  4G077EG15 ,  4G077EJ02 ,  4G077EJ03 ,  4G077EJ04 ,  4G077EJ06

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