特許

J-GLOBAL ID：200903045197241666

パターン検査装置および方法

発明者： 佐々 泰志
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 島田 明宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-250992
公開番号（公開出願番号）：特開2003-065969
出願日： 2001年08月22日
公開日（公表日）： 2003年03月05日
要約：

【要約】【課題】 多値画像である被検査画像と参照画像との比較によるパターン検査の前処理として両画像の画質条件を確実に等しくすることにより確実に欠陥を検出する。【解決手段】 参照画像および被検査画像を共に複数領域に分割して各領域に順次着目する。累積ヒストグラム生成部22aは、両画像の各着目領域データから画像濃度の累積ヒストグラムを生成する。パーセンタイル値決定部22bは、予め決められた上下端部除外率El,Euに基づき両累積ヒストグラムから、両画像の着目領域における上下限パーセンタイル値RPmax,RPminとOPmax,OPminとを求める。濃度変換部26は、これらで定まる濃度レンジ[RPmin,RPmax]と[OPmin,OPmax]とが一致するように、即ち両画像の着目領域の濃度ヒストグラムから上下端部を除外した部分の濃度レンジが互いに一致するように、参照画像の着目領域データに濃度変換を施す。

請求項（抜粋）：

所定パターンの形成された被検査物を撮影することにより得られる多値画像である被検査画像と、前記所定パターンを表す基準とすべき多値画像である参照画像とを画素毎に比較することにより、前記被検査画像と前記参照画像との差異を示す差分マップを作成し、当該差分マップに基づき前記被検査物における欠陥を検出するパターン検査装置であって、前記被検査画像の全部または一部の領域と当該領域に位置的に対応する前記参照画像の領域とに着目し、前記被検査画像と前記参照画像とを互いに比較するために両画像の間で合わせるべき濃度範囲の下限値として両画像の着目領域毎に画素濃度の最小値よりも大きい当該最小値近傍の第1濃度値を選定すると共に、当該合わせるべき濃度範囲の上限値として両画像の着目領域毎に画素濃度の最大値よりも小さい当該最大値近傍の第2濃度値を選定する濃度範囲選定手段と、前記被検査画像の着目領域につき選定される前記第1および第2濃度値によって定まる濃度範囲が、前記参照画像の着目領域につき選定される前記第1および第2濃度値によって定まる濃度範囲と一致するように、前記被検査画像と前記参照画像の少なくとも一方に対して濃度変換を施すことにより、前記被検査画像と前記参照画像とを整合化させる濃度変換手段とを備え、前記濃度変換手段によって整合化された後に前記被検査画像と前記参照画像とが画素毎に比較されることにより前記差分マップが作成されることを特徴とするパターン検査装置。

IPC (8件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G06T 1/00 305 ,  G06T 5/00 100 ,  G06T 7/00 200 ,  G06T 7/00 300 ,  H01L 21/66

FI (9件)：

G01N 21/956 A ,  G01N 21/956 B ,  G01B 11/30 A ,  G06T 1/00 305 A ,  G06T 5/00 100 ,  G06T 7/00 200 B ,  G06T 7/00 300 E ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F

Fターム (70件)：

2F065AA49 ,  2F065AA54 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065CC01 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD00 ,  2F065EE00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF26 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065KK03 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ42 ,  2F065QQ43 ,  2F065QQ45 ,  2F065RR04 ,  2F065RR05 ,  2F065SS01 ,  2F065SS13 ,  2F065UU05 ,  2G051AA51 ,  2G051AA65 ,  2G051AB07 ,  2G051AC21 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03 ,  2G051ED04 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DA14 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB21 ,  4M106DC10 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ21 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CE11 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC23 ,  5B057DC33 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA01 ,  5L096DA01 ,  5L096EA12 ,  5L096FA37 ,  5L096GA08 ,  5L096GA19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 外観検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-002793   出願人：株式会社日立製作所
• 欠陥検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-110383   出願人：株式会社日立製作所