中空微粒子集合体の製造方法及びそれにより得られた中空微粒子集合体

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-001886
公開番号（公開出願番号）：特開2003-200033
出願日： 2002年01月09日
公開日（公表日）： 2003年07月15日
要約：

【要約】【課題】サブミクロン以下の中空構造を有する中空微粒子からなる中空微粒子集合体の製造方法とそれにより得られる中空微粒子集合体を提供する。【解決手段】界面活性剤を含む微粒子前駆体水溶液を、界面活性剤により形成される球状ミセルが自己組織化(液晶化)しない条件下で乾燥させ、100°C〜800°Cで熱処理する中空微粒子集合体の製造方法。前記100°C〜800°Cで熱処理することにより得られる微粒子が中空構造を有し、その粒子径が1nm〜100nmであり、液体窒素温度での窒素吸着量が150cc/g以下であると好ましい。

請求項（抜粋）：

界面活性剤を含む微粒子前駆体水溶液を、界面活性剤により形成される球状ミセルが自己組織化(液晶化)しない条件下で乾燥させ、100°C〜800°Cで熱処理することを特徴とする中空微粒子集合体の製造方法。

IPC (3件)：

B01J 2/06 , B01J 19/00 , C01B 33/18

FI (3件)：

B01J 2/06 , B01J 19/00 N , C01B 33/18 Z

Fターム (27件)：

4G072AA25 , 4G072BB01 , 4G072BB05 , 4G072BB16 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ38 , 4G072JJ47 , 4G072KK01 , 4G072LL06 , 4G072LL11 , 4G072MM01 , 4G072MM31 , 4G072UU01 , 4G072UU03 , 4G072UU30 , 4G075AA27 , 4G075BB02 , 4G075BB05 , 4G075BB08 , 4G075BD16 , 4G075CA02 , 4G075CA03 , 4G075CA57 , 4G075DA18

引用特許：

審査官引用 (7件)

中空粒子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-028195 出願人：ジェイエスアール株式会社
排ガス浄化用触媒とその製造方法及び排ガス浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-054158 出願人：トヨタ自動車株式会社, 株式会社キャタラー
CMP研磨方法及び半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-181545 出願人：株式会社東芝

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