特許
J-GLOBAL ID：200903045233398305

磁気記録媒体の製造方法

発明者：
木村 至孝

木村 至孝 について

, 
北田 裕二

北田 裕二 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-301988
公開番号（公開出願番号）：特開平8-161738
出願日： 1994年12月06日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：
【要約】【構成】 非磁性基板表面にテクスチャーを形成する工程において、平均粒径5μm以下の遊離砥粒を含有する研磨液を用いて、好ましくは基板を200rpm以上の高回転で回転させ、砥粒のディスク半径方向への横断速度50mm/sec以上、砥粒の押し付け圧力2.0Kgf/cm2 以下でテクスチャーを形成する。【効果】 異常突起や深いテクスチャー溝の発生を防いだテクスチャー形状を得ることができ、信頼性を損なうことなく、低浮上保証高さと表面欠陥の少ないディスクを容易に製造することができる。
請求項（抜粋）：
非磁性基板表面にテクスチャーを形成するテクスチャー加工工程を有する磁気記録媒体の製造方法において、該テクスチャー加工を平均粒径5μm以下の遊離砥粒を含有する研磨液を用いて基板表面を研磨することにより行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84 ,  B24B 21/00 ,  B24B 37/00
引用特許：
審査官引用 (3件)

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