特許

J-GLOBAL ID：200903045246401895

露光方法及びリソグラフィシステム

発明者： 秋月 正彦 ,  肥塚 健二 ,  石井 勇樹
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-203497
公開番号（公開出願番号）：特開2000-036451
出願日： 1998年07月17日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】 複数の投影露光装置を使用しつつ、高い重ね合せ精度で重ね合わせ露光を行う。【解決手段】 少なくとも1層以上の露光がなされた感応基板の重ね合わせ露光の対象となる感応基板が、それまでどのような投影露光装置1101〜110Nを用いどのような投影像の歪みで露光されてきたかを示す露光履歴から、各層における転写像の歪みを知り、その上で、各投影露光装置1101〜110Nのそれぞれの歪み調整能力を鑑みて、重ね合わせ精度を高精度に確保できる投影露光装置を選択する。そして、選択された投影露光装置を使用して、当該感応基板の重ね合わせ露光を行う。したがって、複数の投影露光装置1101〜110Nを使用しつつ、高い重ね合せ精度で重ね合わせ露光を行うことができる。

請求項（抜粋）：

投影像の歪みを調整可能な投影露光装置を少なくとも1つ含む複数の投影露光装置で感応基板を多層的に露光する露光方法において、少なくとも1層以上の露光がなされた前記感応基板の重ね合わせ露光に際し、前記感応基板の露光履歴と前記複数の投影露光装置それぞれの歪み調整能力とに基づいて、前記感応基板を重ね合わせ露光する投影露光装置を前記複数の投影露光装置の中から選択することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 514 E ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 G

Fターム (25件)：

5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC10 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA01 ,  5F046DA13 ,  5F046DA27 ,  5F046DA30 ,  5F046DB01 ,  5F046DD06 ,  5F046EA03 ,  5F046EA04 ,  5F046EA09 ,  5F046EB03 ,  5F046EC05 ,  5F046ED03 ,  5F046FA17 ,  5F046FC06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィ方法及び該方法に用いられる露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-162597   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-149278   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-305913
  
• 特開平4-063417