半導体製造プロセス用純水昇圧装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小林哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261023
公開番号（公開出願番号）：特開2001-082346
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】ポンプの出口圧力を一定の圧力に保持し、ポンプの省力化を図ると共に、安全性にも優れた純水昇圧装置を提供することにある。【解決手段】純水を昇圧するポンプ11の吐出側に流体圧力検出部13を設け、この圧力検出部13で吐出圧力を検出しながら、インバータ14により前記ポンプ11の回転速度を制御してCMP装置である処理装置へ供給する純水の供給圧力を所定の流体圧に昇圧保持するようにした半導体製造プロセス用純水昇圧装置である。

請求項（抜粋）：

純水を昇圧するポンプの吐出側に流体圧力検出部を設け、この圧力検出部で吐出圧力を検出しながら、インバータにより前記ポンプの回転速度を制御して処理装置へ供給する純水の供給圧力を所定の流体圧に昇圧保持することを特徴とする半導体製造プロセス用純水昇圧装置。

IPC (2件)：

F04B 49/06 311 , H01L 21/304 622

FI (2件)：

F04B 49/06 311 , H01L 21/304 622 E

Fターム (17件)：

3H045AA06 , 3H045AA09 , 3H045AA23 , 3H045AA31 , 3H045BA20 , 3H045BA41 , 3H045BA43 , 3H045BA49 , 3H045CA03 , 3H045CA19 , 3H045DA07 , 3H045DA47 , 3H045EA13 , 3H045EA26 , 3H045EA37 , 3H045EA42 , 3H045EA50

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-056293
ポンプ流量制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-158746 出願人：日機装株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-296960 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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