特許
J-GLOBAL ID：200903045297676937
光源装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-334887
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153743
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【課題】 光源装置が締め付け力や、温度変化で変形しても、光学特性への影響を小さく抑えることができる光源装置を提供する。【解決手段】 複数の半導体レーザ2,2と、これらの半導体レーザを固定するベース1と、各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズ3,3と、これらのコリメータレンズから出射されるレーザビームを近接したビームにするビーム合成用光学素子5と、これらコリメータレンズ3,3とビーム合成用光学素子5を覆うために上記ベース1に固定されるケース9とを有する光源装置において、上記ケースとベースとを複数箇所で結合すると共に、その1部をねじ11で固定し、残りを長径孔1fとねじ11とガタツキを抑える弾性材32で構成し、逃げの有る結合とした。
請求項（抜粋）：
複数の半導体レーザと、これらの半導体レーザを固定するベースと、各半導体レーザの前面に設けられたコリメータレンズと、これらのコリメータレンズから出射されるレーザビームを近接したビームにするビーム合成用光学素子と、これらコリメータレンズとビーム合成用光学素子を覆うために上記ベースに固定されるケースとを有する光源装置において、上記ケースとベースとを複数箇所で結合すると共に、その1部を固定箇所とし、残りを逃げの有る結合としたことを特徴とする光源装置。
IPC (3件)：
G02B 7/02
, B41J 2/44
, G02B 7/18
G02B 7/02 F
, B41J 3/00 D
, G02B 7/18 A
