特許
J-GLOBAL ID:200903045354764341
超純水製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-068833
公開番号(公開出願番号):特開2002-263643
出願日: 2001年03月12日
公開日(公表日): 2002年09月17日
要約:
【要約】【課題】 DO及びTOCが著しく低い高純度超純水を安定かつ効率的に製造することができる超純水製造装置を提供する。【解決手段】 イオン交換装置4の出口水のDO濃度とTOC濃度とを測定し、これらの測定値に基いてUV酸化装置3のUV照射量を制御する。
請求項(抜粋):
紫外線酸化装置とその後段のイオン交換装置とを備えてなる超純水製造装置において、該イオン交換装置の出口水の溶存酸素濃度と有機物濃度とを測定し、これらの測定結果に基いて該紫外線酸化装置の紫外線照射量を制御することを特徴とする超純水製造装置。
IPC (3件):
C02F 1/32
, C02F 1/42
, C02F 1/72 101
FI (3件):
C02F 1/32
, C02F 1/42 A
, C02F 1/72 101
Fターム (21件):
4D025AA04
, 4D025AB16
, 4D025AB34
, 4D025BA13
, 4D025BB04
, 4D025CA05
, 4D025CA10
, 4D025DA04
, 4D037AA03
, 4D037AB01
, 4D037BA18
, 4D037BB01
, 4D037BB02
, 4D037CA11
, 4D037CA15
, 4D050AA05
, 4D050AB07
, 4D050BB20
, 4D050BC09
, 4D050BD08
, 4D050CA08
引用特許:
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