特許
J-GLOBAL ID:200903045447749083
使用状態が監視される研磨パッドおよびその研磨パッドを利用した交換方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 均 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-248804
公開番号(公開出願番号):特開2003-053658
出願日: 2001年08月20日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【目的】 研磨パッドを交換するべきかどうかを判断するのに必要な時間を大幅に減らす。【構成】 この発明はその使用状態が監視される研磨パッドを提供し、研磨パッド本体と、研磨パッド本体中に設置されて、その厚さが研磨パッド本体の厚さよりも小さい識別部とを含み、研磨パッドを利用した交換方法が次のステップを含む。(a)化学的機械的研磨機台を提供する。(b)研磨パッドを化学的機械的研磨機台の既定位置に設置する。(c)既定時間あるいは一定量のウェーハを研磨した後に、研磨パッドに対して調整を行う。(d)研磨パッドの識別部の変化状況により、研磨パッドの交換を行う必要があるのかどうかを判定して、識別部の変化が基準値を超えた時に、研磨パッドを交換する。
請求項(抜粋):
研磨パッド本体と、前記研磨パッド本体中に設置して、且つその厚さが前記研磨パッド本体の厚さより小さい識別部と、を含む使用状態が監視される研磨パッド。
IPC (2件):
B24B 37/00
, H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 37/00 C
, H01L 21/304 622 F
Fターム (7件):
3C058AA09
, 3C058AA15
, 3C058AC02
, 3C058BA09
, 3C058CB06
, 3C058DA12
, 3C058DA17
引用特許:
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