特許

J-GLOBAL ID：200903045559051356

N,N-ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法

発明者： 小関 洋子 ,  小池 均
出願人/特許権者： 有機合成薬品工業株式会社
代理人 (1件)： 友松 英爾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-293948
公開番号（公開出願番号）：特開平8-134078
出願日： 1994年11月02日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【目的】 取扱いが容易で安全な材料を用いて工業的にN,N-ビス(トリメチルシリル)アミンを製造する新規な方法の提供。【構成】 一般式(I)【化1】R-NH2 (I)(式中、Rは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、又はピリジルアルキル基を表し、これらはいずれも置換基を有することもある。)で示されるアミノ化合物とトリメチルクロロシランとを第三級アミンの存在下、ルイス酸触媒を用いて反応させることを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、Rは前記と同一を表す。)で示されるN,N-ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】R-NH2 (I)(式中、Rは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、又はピリジルアルキル基を表し、これらはいずれも置換基を有することもある。)で示されるアミノ化合物とトリメチルクロロシランとを第三級アミンの存在下、ルイス酸触媒を用いて反応させることを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、Rは前記と同一を表す。)で示されるN,N-ビス(トリメチルシリル)アミンの製造方法。

IPC (3件)：

C07F 7/10 ,  B01J 27/125 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ハロゲン化アルコキシシランの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-139658   出願人：電気化学工業株式会社