特許
J-GLOBAL ID:200903045580522253

窒素ガスの製造方法および製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-154709
公開番号(公開出願番号):特開2003-313014
出願日: 2002年04月22日
公開日(公表日): 2003年11月06日
要約:
【要約】【課題】 PAS方式の場合、装置が大形となり、電磁弁等の装置のメンテナンスに難点があった。 また、膜分離方式の場合、窒素純度は95〜99.9%程度となるため、高純度のニーズには適しなかった。 更に、深冷分離方式の場合、99.999%以上の高純度の窒素が得られるが、大規模な設備が必要であった。【解決手段】 圧縮空気より酸素を除去する中空糸膜41,42,43の下流で前記中空糸膜41,42,43を流れる圧縮空気の流量を個々に調整することで、中空糸膜41,42,43の各々の下流を流れる窒素ガスの純度を一定の範囲のものにした。
請求項(抜粋):
圧縮空気より酸素を除去する中空糸膜(41,42,43)の下流で前記中空糸膜(41,42,43)を流れる圧縮空気の流量を個々に調整することで、前記中空糸膜(41,42,43)の各々の下流を流れる窒素ガスの純度を一定の範囲のものにしたことを特徴とする窒素ガスの製造方法。
IPC (5件):
C01B 21/04 ,  B01D 53/14 ,  B01D 53/22 ,  B01D 63/02 ,  B01J 20/02
FI (6件):
C01B 21/04 N ,  C01B 21/04 D ,  B01D 53/14 B ,  B01D 53/22 ,  B01D 63/02 ,  B01J 20/02 A
Fターム (26件):
4D006GA41 ,  4D006HA01 ,  4D006KA01 ,  4D006KA64 ,  4D006KA67 ,  4D006KA72 ,  4D006KB14 ,  4D006KB30 ,  4D006KE03Q ,  4D006KE13Q ,  4D006MA01 ,  4D006MB04 ,  4D006MC48 ,  4D006PA01 ,  4D006PB17 ,  4D006PB63 ,  4D020AA02 ,  4D020BA04 ,  4D020BB01 ,  4D020CA05 ,  4G066AA05C ,  4G066AA27B ,  4G066AA35D ,  4G066CA37 ,  4G066DA03 ,  4G066EA07
引用特許:
審査官引用 (2件)

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