特許
J-GLOBAL ID:200903045597211642
力学量検出装置とその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-113411
公開番号(公開出願番号):特開2008-268086
出願日: 2007年04月23日
公開日(公表日): 2008年11月06日
要約:
【課題】変位部がベース層に貼り付くことが防止されているとともに、検出感度が高い力学量検出装置を製造する方法を提供する。【解決手段】力学量検出装置を製造する方法であって、積層基板の格子状に配列されている複数個の微小領域内の活性層を犠牲層に達するまでエッチングする活性層エッチング工程と、活性層を除去した部分から犠牲層を等方性エッチングする犠牲層エッチング工程を有しており、活性層エッチング工程では、4つの微小領域で囲まれる囲み部分の中心から微小領域までの最短距離が、一部の囲み部分において長く、他の囲み部分において短いという関係を満足しており、犠牲層エッチング工程では、拡大囲み部分の裏面ではベース層から突出するとともに活性層に達しない突出部が残存するとともに、拡大囲み部分以外の変位部と梁の裏面では犠牲層が除去されるエッチング時間で犠牲層をエッチングする。【選択図】図4
請求項(抜粋):
ベース層と犠牲層と活性層がその順序で積層されている積層基板から、犠牲層を介してベース層に固定されている基部と、基部から伸びているとともに犠牲層が除去されているためにベース層から遊離している梁と、梁の先端部に接続されているとともに犠牲層が除去されているためにベース層から遊離している変位部を備えている力学量検出装置を製造する方法であって、
前記積層基板の、前記梁となる範囲の両サイドに位置する活性層と、前記変位部となる範囲の外周領域のうちの梁との接続部分を除いた領域の活性層と、前記変位部となる範囲内において格子状に配列されている複数個の微小領域内の活性層を、犠牲層に達するまでエッチングする活性層エッチング工程と、
前記活性層エッチング工程で活性層を除去した部分から犠牲層を等方性エッチングする犠牲層エッチング工程を有しており、
前記活性層エッチング工程では、4つの微小領域で囲まれる囲み部分が前記変位部内に複数個形成されるところ、下記の関係、即ち;
囲み部分の中心から前記微小領域までの最短距離が、一部の囲み部分において長く、他の囲み部分において短く、
前記囲み部分以外において隣接する微小領域を分離している距離と、前記変位部の外周とその内側に位置する微小領域を分離している距離と、前記梁の幅のいずれよりも、前記最短距離が長い拡大囲み部分での前記最短距離の2倍長の方が長いという関係を満足しており、
前記犠牲層エッチング工程では、前記拡大囲み部分の裏面ではベース層から突出するとともに活性層に達しない突出部が残存するとともに、前記拡大囲み部分以外の前記変位部と前記梁の裏面では犠牲層が除去されるエッチング時間で犠牲層をエッチングすることを特徴とする力学量検出装置の製造方法。
IPC (3件):
G01C 19/56
, G01P 9/04
, H01L 29/84
FI (3件):
G01C19/56
, G01P9/04
, H01L29/84 Z
Fターム (17件):
2F105BB02
, 2F105CC04
, 2F105CD01
, 2F105CD05
, 2F105CD13
, 4M112AA02
, 4M112BA07
, 4M112CA21
, 4M112CA24
, 4M112CA31
, 4M112CA36
, 4M112DA03
, 4M112DA04
, 4M112EA02
, 4M112EA06
, 4M112FA01
, 4M112FA20
引用特許:
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