特許

J-GLOBAL ID：200903045611151860

合成ガス製造触媒及び合成ガスの製造方法

発明者： 鹿田 勉 ,  大野 陽太郎 ,  井上 紀夫 ,  水口 雅嗣 ,  戸村 啓二
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 田中 政浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-338283
公開番号（公開出願番号）：特開平10-174869
出願日： 1996年12月18日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：

【要約】【課題】 低温において高い収率で合成ガスを得ることができる触媒及び製造方法を提供する。【解決手段】 上記課題は、銅を含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと二酸化炭素から合成ガスを生成させる触媒と、ジメチルエーテルと二酸化炭素を含有する混合ガスに銅を含有する触媒を接触させることを特徴とする合成ガスの製造方法によって解決される。

請求項（抜粋）：

銅を含有することを特徴とする、ジメチルエーテルと二酸化炭素から合成ガスを生成させる触媒

IPC (5件)：

B01J 23/72 ,  B01J 23/80 ,  B01J 23/86 ,  C01B 3/40 ,  C01B 31/18

FI (5件)：

B01J 23/72 M ,  B01J 23/80 M ,  B01J 23/86 M ,  C01B 3/40 ,  C01B 31/18 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 水素リッチガスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-189590   出願人：ハルドール・トプサー・アクチエゼルスカベット