特許
J-GLOBAL ID:200903045621030638

処理装置および処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金坂 憲幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-297469
公開番号(公開出願番号):特開平9-115994
出願日: 1995年10月20日
公開日(公表日): 1997年05月02日
要約:
【要約】【課題】 載置体上の被処理基板の有無だけでなく、被処理基板の重ね保持等の異常を認識することが可能で、自動化および信頼性の向上が図れる処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】 被処理基板Wを載置体26上に載置すると共に、上記被処理基板Wの周縁部を上記載置体26に対して押圧可能な保持体27により保持した状態で上記被処理基板Wに所定の処理を施す処理装置において、上記保持体27の変位を検知する変位検知手段43を備えている。
請求項(抜粋):
被処理基板を載置体上に載置すると共に、上記被処理基板の周縁部を上記載置体に対して押圧可能な保持体により保持した状態で上記被処理基板に所定の処理を施す処理装置において、上記保持体の変位を検知する変位検知手段を備えたことを特徴とする処理装置。
IPC (6件):
H01L 21/68 ,  C23C 14/48 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/31
FI (7件):
H01L 21/68 N ,  C23C 14/48 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 G ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/265 E ,  H01L 21/265 T
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 被処理体の検出装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-061295   出願人:東京エレクトロン山梨株式会社

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