特許
J-GLOBAL ID:200903045635305290

2段逆浸透膜処理装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伴 俊光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-013775
公開番号(公開出願番号):特開2001-205267
出願日: 2000年01月24日
公開日(公表日): 2001年07月31日
要約:
【要約】【課題】 高価な専用のアルカリ添加量制御装置を必要とせず、優れた処理水水質を安定して安価に得ることができる2段逆浸透膜処理装置および方法を提供する。【解決手段】 原水を一次透過水へと処理する1段目逆浸透膜装置と、一次透過水にアルカリを添加するアルカリ添加手段と、一次透過水を供給水として二次透過水へと処理する2段目逆浸透膜装置とを備えた2段逆浸透膜処理装置において、2段目逆浸透膜装置の逆浸透膜に、2段目逆浸透膜装置への供給水の電気伝導率を5μS/cm、遊離炭酸濃度を5mgCaCO3 /Lとしたとき、pHが7〜9の範囲において、ΔpH±0.5の変動に対する二次透過水の電気抵抗率の変動が±0.2MΩ・cm以下となる領域を有する膜を用いたことを特徴とする2段逆浸透膜処理装置、およびその装置においてアルカリを一定量にて添加する方法。
請求項(抜粋):
原水を一次透過水へと処理する1段目逆浸透膜装置と、一次透過水にアルカリを添加するアルカリ添加手段と、一次透過水を供給水として二次透過水へと処理する2段目逆浸透膜装置とを備えた2段逆浸透膜処理装置において、2段目逆浸透膜装置の逆浸透膜に、2段目逆浸透膜装置への供給水の電気伝導率を5μS/cm、遊離炭酸濃度を5mgCaCO3 /Lとしたとき、pHが7〜9の範囲において、ΔpH±0.5の変動に対する二次透過水の電気抵抗率の変動が±0.2MΩ・cm以下となる領域を有する膜を用いたことを特徴とする2段逆浸透膜処理装置。
IPC (4件):
C02F 1/44 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/02
FI (4件):
C02F 1/44 H ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/02
Fターム (23件):
4D006GA03 ,  4D006JA58A ,  4D006KA03 ,  4D006KA16 ,  4D006KA52 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KA63 ,  4D006KA71 ,  4D006KB11 ,  4D006KD17 ,  4D006KE07P ,  4D006KE13P ,  4D006KE15Q ,  4D006KE16P ,  4D006KE19P ,  4D006KE30P ,  4D006MA06 ,  4D006MB17 ,  4D006MC56 ,  4D006PA01 ,  4D006PB06 ,  4D006PC02
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 純水製造装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-323185   出願人:オルガノ株式会社
  • 造水方法および造水装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-055178   出願人:東レ株式会社

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