露光装置および方法ならびにデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：伊東哲也 , 齋藤和則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-127902
公開番号（公開出願番号）：特開2007-300004
出願日： 2006年05月01日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】計測されたマークの位置ずれ量を近似する線形な関係式を求める新規な露光装置および方法ならびにデバイス製造方法の提供。【解決手段】基板を露光する露光装置は、前記基板を保持し、かつ移動する基板ステージと、前記基板ステージに保持された基板上のマークの位置ずれ量を計測する計測器と、前記計測器により計測された複数の位置ずれ量を近似する線形な関係式を求める演算器と、前記基板上の被露光領域の露光のため、前記関係式に基づく目標位置にしたがって前記基板ステージの位置を制御する制御器とを有し、前記演算器は、前記計測器により計測されたマークの位置ずれ量と前記関係式により近似されるマークの位置ずれ量との差が予め定めた許容範囲外となるマークの数が最小となるように、前記関係式を整数計画法により求めることを特徴とするものとする。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

基板を露光する露光装置であって、前記基板を保持し、かつ移動する基板ステージと、前記基板ステージに保持された基板上のマークの位置ずれ量を計測する計測器と、前記計測器により計測された複数の位置ずれ量を近似する線形な関係式を求める演算器と、前記基板上の被露光領域の露光のため、前記関係式に基づく目標位置にしたがって前記基板ステージの位置を制御する制御器とを有し、前記演算器は、前記計測器により計測されたマークの位置ずれ量と前記関係式により近似されるマークの位置ずれ量との差が予め定めた許容範囲外となるマークの数が最小となるように、前記関係式を整数計画法により求めることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (4件)：

H01L21/30 525W , G03F7/20 521 , H01L21/30 516A , H01L21/30 516B

Fターム (6件)：

5F046BA03 , 5F046DA12 , 5F046DA13 , 5F046DB04 , 5F046EB01 , 5F046FC04

引用特許：

出願人引用 (1件)

位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-016115 出願人：株式会社ニコン

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