特許
J-GLOBAL ID：200903045660672426

カラーフィルタの製造方法

発明者：
吉林 光司

吉林 光司 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-346108
公開番号（公開出願番号）：特開2008-046584
出願日： 2006年12月22日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】ドライエッチング法によるカラーフィルタの製造方法であって、微細かつ矩形な画素を有し平坦性に優れたカラーフィルタを製造することが可能なカラーフィルタの製造方法の提供【解決手段】支持体上に設けた第1の着色層上に、第2の着色層を形成すべき領域に対応する第1の着色層をドライエッチング法により除去し、その除去領域を埋め込むように第2の着色層を形成し、次いで、第3の着色層を形成すべき領域に対応する第1及び第2の着色層をドライエッチング法により除去し、その除去領域を埋め込むように第3の着色層を形成し、着色層上に積層された着色層を除去するカラーフィルタの製造方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)支持体上に、第1の着色層を形成する第1の着色層形成工程と、 (b)前記第1の着色層上に、フォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、 (c)前記第1の着色層とは異なる第2の着色層を支持体上に形成する領域の前記フォトレジスト層を除去することにより、前記第1の着色層上に画像を形成する画像形成工程と、 (d)前記画像形成工程によって形成された画像様に、前記領域における前記第1の着色層をドライエッチング法により除去するエッチング工程と、 (e)前記エッチング工程後に残存する前記フォトレジスト層を除去するフォトレジスト層除去工程と、 (f)少なくとも前記第1の着色層が除去された前記領域に、前記第2の着色層を形成する第2の着色層形成工程と、 を含むカラーフィルタの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 ,  G02F 1/133
FI (2件)：
G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505
Fターム (24件)：
2H048BA02 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA64 ,  2H048BA66 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091FD04 ,  2H091FD24 ,  2H091LA15 ,  2H191FA02X ,  2H191FA02Y ,  2H191FA02Z ,  2H191FC10 ,  2H191FC36 ,  2H191FC41 ,  2H191FD04 ,  2H191FD44 ,  2H191LA19
引用特許：
出願人引用 (7件)
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