特許
J-GLOBAL ID：200903045662045801

日射遮蔽膜および波長選択型遮蔽膜

発明者：
早川 至

早川 至 について


出願人/特許権者：
住友金属鉱山株式会社

住友金属鉱山株式会社 について


代理人 (3件)： 阿仁屋 節雄 ,  油井 透 ,  清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-029545
公開番号（公開出願番号）：特開2008-194563
出願日： 2007年02月08日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
【課題】ブルーヘイズが低減され、且つ、優れた膜強度を発揮する日射遮蔽膜を提供する。【解決手段】複合タングステン酸化物から選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子からなる近赤外線遮蔽成分と、窒化チタン、酸窒化チタン、カーボンブラックから選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子からなる顔料と、バインダー成分からなり、顔料の含有量は、前記日射遮蔽膜の波長780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR1とし、前記顔料を含有しない前記日射遮蔽膜の780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR0としたとき、0.15≧(R0-R1)/R0≧0.03を満たす量であり、バインダー成分の少なくとも1種が、グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシシランとをモル比で2:1〜1:1の範囲で反応させてなる反応物である日射遮蔽膜。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
近赤外線遮蔽成分と、顔料と、バインダー成分と、を含有する日射遮蔽膜形成用塗布液を用いて塗膜形成される日射遮蔽膜であって、 前記近赤外線遮蔽成分が、複合タングステン酸化物から選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子であり、 前記顔料が、窒化チタン、酸窒化チタン、カーボンブラックから選ばれた少なくとも1種を含む平均粒径200nm以下の微粒子であり、 前記顔料の含有量は、前記日射遮蔽膜の波長780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR1とし、前記顔料を含有しない前記日射遮蔽膜の780nm以下の領域における全光線反射のピーク強度をR0としたとき、0.15≧(R0-R1)/R0≧0.03を満たす量であり、 前記バインダー成分の少なくとも1種が、グリシドキシプロピル基含有アルコキシシランとアミノプロピル基含有アルコキシシランとをモル比で2:1〜1:1の範囲で反応させてなる一般式(化1)で表される反応物である、 ことを特徴とする日射遮蔽膜。
IPC (7件)：
B05D 5/06 ,  C09K 3/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 5/32 ,  C09D 183/06 ,  C09D 183/08 ,  C03C 17/25
FI (10件)：
B05D5/06 B ,  C09K3/00 105 ,  C09K3/00 104A ,  C09K3/00 104C ,  C09K3/00 104Z ,  C09D7/12 ,  C09D5/32 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  C03C17/25 A
Fターム (24件)：
4D075CA25 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075EB43 ,  4D075EC02 ,  4D075EC11 ,  4D075EC47 ,  4G059AA01 ,  4G059AC07 ,  4G059EA05 ,  4G059EA18 ,  4G059EB07 ,  4J038DL051 ,  4J038DL052 ,  4J038DL081 ,  4J038DL082 ,  4J038HA026 ,  4J038HA166 ,  4J038HA316 ,  4J038KA08 ,  4J038KA12 ,  4J038NA19 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08
引用特許：
出願人引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM