特許
J-GLOBAL ID：200903045662444820
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-033850
公開番号（公開出願番号）：特開2009-105469
出願日： 2009年02月17日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：
【課題】浸液中の気泡の発生が低減された浸漬リソグラフィ装置を提供する。【解決手段】浸漬リソグラフィ投影装置は、投影系と基板の間の空間に液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉込め構造を有し、この閉込め構造は緩衝面を有し、この緩衝面は使用時に、基板及び基板を保持した基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定する。この緩衝面には凹みが形成されており、この凹みは使用時には通常液体で満たされていて、基板と基板テーブルの間のすき間が緩衝面の下を移動したときにこのすき間を急速に満たすことができるようになっている。この凹みは環状又は放射状とすることができ、複数の凹みを配置することができる。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
パターン形成装置からのパターン形成された放射ビームを液体を通して基板上に投影するように配置されたリソグラフィ投影装置であって、
前記パターン形成された放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影系と、
前記投影系と前記基板の間の空間に前記液体を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉込め構造と
を含み、
前記閉込め構造が緩衝面を有し、前記緩衝面が使用時に、前記基板及び前記基板を保持するように構成された基板テーブルの上面を実質的に含む平面にごく近接して配置されて、流動抵抗を有する通路を画定し、前記緩衝面が凹みを含み、前記凹みが使用時には通常液体で満たされていて、前記基板と前記基板テーブルの間のすき間が前記緩衝面の下を移動したときに前記すき間を急速に満たすことができるようになっている
装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516Z
, H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046AA22
, 5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046CB26
, 5F046CC01
, 5F046CC04
, 5F046CC08
, 5F046DA07
, 5F046DA27
