特許

J-GLOBAL ID：200903045748363431

基板洗浄評価方法

発明者： 平岡 伸康
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-228811
公開番号（公開出願番号）：特開2000-051796
出願日： 1998年08月13日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】 より高い洗浄能力を評価することができる基板洗浄評価方法を提供する。【解決手段】 純水にラテックスを混ぜたラテックス水溶液を塗布した後の基板を乾燥させて、ラテックスが散布された状態の複数枚の洗浄評価用基板を生成する(S1)。各々異なる加熱温度ごとに洗浄評価用基板を加熱することにより、加熱温度ごとに異なる定着力でラテックスが洗浄評価用基板に定着する(S2)。前記洗浄評価用基板を所定の洗浄条件で洗浄する(S4)。洗浄評価用基板上に散布されたラテックスの粒子数を洗浄の前後で各々測定する(S3、5)。洗浄前後で基板上のラテックスの粒子数が大きく変化した基板の加熱温度をその洗浄条件の洗浄能力として指標する。複数の洗浄条件の各加熱温度を指標することで、高い洗浄能力を有する洗浄条件等を評価することができる(S6、7)。

請求項（抜粋）：

除去対象物が散布された基板を洗浄した際に、洗浄前後での基板上の除去対象物の個数の変化によって、洗浄能力を評価する基板洗浄評価方法であって、複数枚の基板に除去対象物であるラテックスを各々散布する過程と、前記各基板を各々異なる加熱温度で加熱する過程と、前記各基板上に散布されたラテックスの粒子数を洗浄前に測定する過程と、前記加熱された各基板を洗浄する過程と、前記洗浄後に各基板上に残留するラテックスの粒子数を測定する過程と、前記各基板の中から、基板上のラテックスの粒子数が洗浄前後で比較的大きく変化した基板の加熱温度を、基板の洗浄能力として指標する過程とを備えることを特徴とする基板洗浄評価方法。

IPC (6件)：

B08B 3/00 ,  B08B 13/00 ,  G01N 15/00 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/66

FI (6件)：

B08B 3/00 ,  B08B 13/00 ,  G01N 15/00 A ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/66 J

Fターム (30件)：

2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AA90 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051CA02 ,  2G051CA20 ,  2G051CB01 ,  2G051DA08 ,  3B116AA03 ,  3B116BA11 ,  3B116BB21 ,  3B116BB83 ,  3B116BB90 ,  3B116CC05 ,  3B201AA03 ,  3B201BA11 ,  3B201BB21 ,  3B201BB83 ,  3B201BB90 ,  3B201BB94 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  4M106AA01 ,  4M106BA10 ,  4M106CA29 ,  4M106CA41 ,  4M106DH01 ,  4M106DH11 ,  4M106DH32

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 超音波洗浄の評価方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-011621   出願人：株式会社東芝
• 汚染評価基板の作製方法及びその装置並びに汚染評価方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-235830   出願人：東京エレクトロン株式会社