特許
J-GLOBAL ID：200903045756034838
気化装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-336637
公開番号（公開出願番号）：特開2001-152343
出願日： 1999年11月26日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：
【要約】【課題】 液体原料を気化させて生成した原料ガスをCVD装置に供給するための気化装置において、原料ガスの供給量を大きくすることができる気化装置を提供する。【解決手段】 液体原料1を気化させるための気化室2と、液体原料1を粒子化して気化室2内に噴射するノズル3と、ノズル3から噴射された液体原料粒子4に所定のエネルギーを加えてさらに小さい微粒子に分割して気化させる微粒化部とで構成され、微粒化部には例えば高周波振動板5を設置し、また、装置周囲にヒータ21を配置し、また、ノズル3にはヒータ22,23を配置して、装置全体ならびに液体原料1とノズル3を、原料が変化しない範囲の最高の温度に加熱できるようにしている。
請求項（抜粋）：
液体原料を気化させて生成した原料ガスをCVD装置に供給するための気化装置において、液体原料を気化させるための気化室と、液体原料を粒子化して気化室内に噴射するノズルと、ノズルから噴射された液体原料粒子に所定のエネルギーを加えてさらに小さい微粒子に分割して気化させる微粒化部とで構成されていることを特徴とする気化装置。
IPC (2件)：
C23C 16/448
, H01L 21/205
C23C 16/448
, H01L 21/205
4K030CA04
, 4K030EA01
, 4K030KA45
, 4K030LA15
, 5F045EC09
, 5F045EE02
, 5F045EE06
, 5F045EE07
, 5F045EF02
, 5F045EF08
, 5F045EK05
