特許
J-GLOBAL ID：200903045762289120
水素ガス製造方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
加藤 久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-054950
公開番号（公開出願番号）：特開2005-054266
出願日： 2004年02月27日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】鉄と硫酸による直接の反応を利用した水素発生ではなく、またガスなどのコストの掛かる原料を用いないで水素を得ることのできる水素ガス製造方法および装置を提供する。【解決手段】正電極2,負電極3を有する電気分解槽1と、この電気分解槽1に酸液5を供給および排出するポンプ8,10と、電気分解槽1の上部に収集された水素ガスに含まれる不純物ガスを除去するガス除去装置14と、水素分子を透過する多孔質セラミックフィルタ15と、その多孔質セラミックフィルタ15によって精製された水素を収集する水素貯蔵部16とを備えた水素ガス製造装置。電気分解槽1内に貯留した酸液5に鉄材6を浸漬させるとともに電気分解により水素ガスを生成し、生成した水素ガス中の不純物ガスをガス除去装置14で除去し、多孔質セラミックフィルタ15により水素分子のみを透過させて高純度の水素ガスを得る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電気分解槽内に貯留した酸液に鉄材を浸漬させるとともに電気分解により水素ガスを生成し、生成した水素ガスを水素分子が通過する程度の孔を有する高分子膜、多孔質セラミックフィルタ等の水素透過膜を通して高純度の水素ガスを得ることを特徴とする水素ガス製造方法。
IPC (4件)：
C25B1/02
, C01B3/56
, C25B11/04
, C25B15/08
C25B1/02
, C01B3/56 Z
, C25B11/04 Z
, C25B15/08 302
4G140FA02
, 4G140FB01
, 4G140FB04
, 4G140FB06
, 4G140FB07
, 4G140FC01
, 4G140FD05
, 4G140FD07
, 4G140FE01
, 4K011AA17
, 4K011DA01
, 4K011DA05
, 4K011DA11
, 4K021AA01
, 4K021BA02
, 4K021BA04
, 4K021BA05
, 4K021BC07
, 4K021CA09
, 4K021DB19
, 4K021DB40
, 4K021DC03
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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