薬液濃度管理方法及び薬液濃度管理装置を備えた化学的処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-070349
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278847
出願日： 1994年04月08日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】【目的】処理糟内の薬液の濃度を自動的に所定の薬液濃度範囲内に収めること。【構成】処理槽2の出口2Cに接続されたバルブ7に並列に薬液濃度測定センサー11が接続され、前記処理槽内の薬液濃度をリアルタイムで測定し、その得られた薬液濃度データを薬液濃度データ処理装置12で処理し、そこで得られた制御信号をコントローラ6に供給して、その制御信号に基づく開閉信号を得る。前記処理槽2の補充口2Bには、電磁バルブ8を介して薬液補充槽5が接続されており、前記開閉信号で前記電磁バルブ8が制御され、薬液補充槽5から薬液の補充が行われ、薬液の濃度が一定に保たれる。

請求項（抜粋）：

処理槽内の薬液濃度をリアルタイムに検知し、その薬液濃度が予め設定された管理限界以下になった時、薬液補充槽から薬液を自動的に補充し、そして予め設定された管理限界以上になった時、前記薬液補充を停止することを特徴とする化学的処理装置における薬液濃度管理方法。

IPC (3件)：

C23F 1/08 101 , H01L 21/304 341 , H01L 21/306

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-039491
特開昭60-114579
特開昭59-126777

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