特許
J-GLOBAL ID：200903045849283978

周期性パターンの欠陥検査方法および装置

発明者：
小林 正嘉

小林 正嘉 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-092913
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281166
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：
【要約】【課題】 画像処理するデータ量が比較的少なくて済み、欠陥の定量化が可能で、複数の周期性パターンにわたり発生しているシミなどの欠陥も検出可能であり、モアレの影響を少なくして高い欠陥検出感度を持つ欠陥検出方法を提供する。【解決手段】 縦・横方向の各辺の長さl、mが被検査物上の周期性パターン10の縦・横方向における各ピッチa、bの整数倍を有する矩形領域14を、被検査面上において周期性パターンとの相対位置関係を規定することなく設定し、被検査面を走査して矩形領域単位での光量を順次測定し、矩形領域ごとの測定値とその矩形領域以外の複数の矩形領域での測定値の平均値との比を求め、その比から矩形領域内の欠陥の有無を判定する。
請求項（抜粋）：
平面的に配列された周期性パターンを有する被検査物の画像を用いて周期性パターン上に欠陥があるかどうかを検査する周期性パターンの欠陥検査方法において、縦方向および横方向の各辺が前記周期性パターンの縦方向および横方向における各ピッチのそれぞれ整数倍の長さを有する矩形領域を、被検査面上において周期性パターンとの相対位置関係を規定することなく設定し、被検査面を走査して、前記矩形領域単位での光量を順次測定していき、それぞれの矩形領域ごとの測定値と、その矩形領域以外の複数の矩形領域での測定値の平均値との比を求め、その比から矩形領域における欠陥の有無を判定することを特徴とする周期性パターンの欠陥検査方法。
IPC (6件)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G01M 11/00 ,  G06T 1/00 300 ,  H01J 9/14 ,  H01J 9/42
FI (7件)：
G01N 21/956 Z ,  G01M 11/00 T ,  G06T 1/00 300 ,  H01J 9/14 G ,  H01J 9/14 H ,  H01J 9/42 A ,  G01B 11/24 F
Fターム (47件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA56 ,  2F065BB01 ,  2F065CC01 ,  2F065CC17 ,  2F065CC21 ,  2F065DD04 ,  2F065DD07 ,  2F065FF01 ,  2F065FF41 ,  2F065GG16 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM01 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR02 ,  2F065UU05 ,  2G051AA65 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051CD04 ,  2G051DA06 ,  2G051DA07 ,  2G051EC03 ,  2G051ED30 ,  2G086EE05 ,  2G086EE10 ,  2G086EE12 ,  5B057CC03 ,  5B057CE04 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5C012AA02 ,  5C012BE03 ,  5C027HH29
引用特許：
審査官引用 (4件)
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