特許
J-GLOBAL ID：200903045850890543
成膜装置用高周波電力供給装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工藤 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-175020
公開番号（公開出願番号）：特開2004-018934
出願日： 2002年06月14日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】小容量の電源装置で複数のチャンバに確実に高周波電源を供給できる成膜装置用高周波電力供給装置を提供する。【解決手段】ロータリ盤1上に配置された対チャンバ101〜10nと、対チャンバ101〜10nに高周波電力を供給する高周波電源33と、ロータリ盤1に載置されて回転する対チャンバ101〜10nが所定位置に到着したことを検出する位置検出部381〜38n、371〜37nと、高周波電源33からの高周波電力を位置検出部381〜38n、371〜37nで検出された対チャンバ101〜10nに給電後、該高周波電源33に接続された次の位置の対チャンバ101〜10nに高周波電力が供給されるように切り替える制御装置31とを備えている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ロータリ盤の外周部に配置されたチャンバと、
前記ロータリ盤の回転中心部の偏心位置に配置され、インターロック回路を介して出力を通電又は遮断することが可能であって、前記チャンバに高周波電力を供給する高周波電源と、
前記各チャンバに設けた運動側の位置検出手段と固定側に設けた固定側の位置検出手段で構成されるチャンバ位置検出手段と、
前記高周波電源出力を接続する前記チャンバを切り替える切り替え手段と、
チャンバ位置検出手段からの位置検出信号を入力して、前記インターロック回路及び切り替え手段の動作信号を出力する制御手段、
とを備えた成膜装置用高周波電力供給装置。
IPC (4件)：
C23C16/505
, B65D1/09
, C23C16/27
, C23C16/54
C23C16/505
, C23C16/27
, C23C16/54
, B65D1/00 C
3E033BA06
, 3E033BA13
, 3E033BB08
, 3E033CA03
, 3E033EA10
, 3E062AA09
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JB24
, 3E062JC01
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030CA14
, 4K030FA01
, 4K030GA05
, 4K030JA16
, 4K030KA30
, 4K030KA41
, 4K030LA11
