特許
J-GLOBAL ID:200903045892875870

物品の顕微鏡検査装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-132023
公開番号(公開出願番号):特開平8-005567
出願日: 1994年06月14日
公開日(公表日): 1996年01月12日
要約:
【要約】【目的】 VLSIレチクル等の微細及び超微細欠陥を高精度に検出できる検査方法及び装置を提供する。【構成】 検査されるべき、かつ基準と比較されるべきパターン化された対象物(レチクル、ホトマスク、半導体ウェーハ、フラットパネルディスプレイ等)を検査し、この対象物の可視的に感知できる特性に関係する情報を出力する。この可視的に感知できる特性に関係する2進情報を上記基準の対応する可視的に感知できる特性に関係する2進レベル情報と比較し、上記対象物の微細欠陥を精度良く検出し、さらに、上記対象物の可視的に感知できる特性に関係するグレイレベル情報を上記基準の対応する可視的に感知できる特性に関係するグレイレベル情報と比較し、上記対象物の超微細欠陥を高精度に検出する。
請求項(抜粋):
検査されるべき、かつ基準と比較されるべきパターン化された対象物を用意する段階と、前記パターン化された対象物を検査し、このパターン化された対象物の可視的に感知できる特性に関係する情報の出力を提供する段階と、前記パターン化された対象物の可視的に感知できる特性に関係する2進レベル情報を前記基準の対応する可視的に感知できる特性に関係する2進レベル情報と比較する段階と、前記パターン化された対象物の可視的に感知できる特性に関係するグレイレベル情報を前記基準の対応する可視的に感知できる特性に関係するグレイレベル情報と比較する段階とからなることを特徴とする検査方法。
IPC (3件):
G01N 21/88 ,  G01B 11/24 ,  G06T 7/00
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開昭58-134429
  • 特開昭57-107046
  • パターン検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-223905   出願人:株式会社ニコン
全件表示

前のページに戻る