特許
J-GLOBAL ID：200903045923882722

高分子発光素子の製造方法および高分子発光素子

発明者：
土居 秀二

土居 秀二 について

, 
森川 通孝

森川 通孝 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-111019
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313561
出願日： 2001年04月10日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】大面積化や低コスト化が容易で、パターン形成が可能な高分子LEDの製造方法およびそれにより得られる高分子LEDを提供する。【解決手段】〔1〕少なくとも一方が透明または半透明である一対の陽極および陰極からなる電極間に、少なくとも1種類の高分子材料を含む層を1層以上有する高分子発光素子の製造方法であって、該高分子材料を含む層が、溶媒に該高分子材料を溶解または分散させた溶液を用いて、フレキソ印刷法によって形成され、かつ該溶媒が、フレキソ版を該溶媒に浸漬したときのフレキソ版の膨潤率が30%以下である溶媒である高分子LEDの製造方法。〔2〕数平均分子量が103〜108であり、式(1)で示される繰り返し単位を含む高分子発光材料を用い、上記〔1〕の方法で製造される高分子発光素子。-Ar1-(CR1=CR2)n- (1)〔Ar1は、アリーレン基等。R1、R2は水素原子等。nは0または1〕
請求項（抜粋）：
少なくとも一方が透明または半透明である一対の陽極および陰極からなる電極間に、少なくとも1種類の高分子材料を含む層を1層以上有する高分子発光素子の製造方法であって、該高分子材料を含む層が、溶媒に該高分子材料を溶解または分散させた溶液を用いて、フレキソ印刷法によって形成され、かつ該溶媒が、フレキソ版を該溶媒に浸漬したときのフレキソ版の膨潤率が30%以下である溶媒であることを特徴とする高分子発光素子の製造方法。
IPC (6件)：
H05B 33/10 ,  C09K 11/06 680 ,  G02F 1/13357 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (7件)：
H05B 33/10 ,  C09K 11/06 680 ,  G02F 1/13357 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/14 B ,  H05B 33/22 B ,  H05B 33/22 D
Fターム (24件)：
2H091FA45Z ,  3K007AA06 ,  3K007AA07 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB07 ,  3K007CA03 ,  3K007CB01 ,  3K007DA02 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  5C094AA01 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA01 ,  5C094BA27 ,  5C094CA14 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA07 ,  5C094EB05
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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