特許
J-GLOBAL ID：200903045935408910

対向ターゲット式スパッタ装置

発明者：
門倉 貞夫

門倉 貞夫 について

, 
安福 久直

安福 久直 について


出願人/特許権者：
株式会社エフ・テイ・エスコーポレーション

株式会社エフ・テイ・エスコーポレーション について


代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-272615
公開番号（公開出願番号）：特開2004-107733
出願日： 2002年09月19日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】対向ターゲット間へのプラズマの閉じ込め性を改善する。基板の温度上昇を抑える。【解決手段】対向空間120を介してターゲット110a、110bを配置し、その側面部に、N極とS極とが向き合うように、永久磁石130a、130bを配置する。永久磁石130aと永久磁石130bとの対向空間120と反対側の磁極同士を磁気的に接続するために、ヨーク190を配置する。ヨーク190は、永久磁石130aの背面に配置されるコア部191aと、永久磁石130bの背面に配置されるコア部191bと、二つのコア部を接続する連結部192から構成される。コア部191a、191bと連結部192は強磁性体により形成される。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
所定距離の空間を隔てて対向した少なくとも1対のターゲットと、該ターゲットの間の対向空間を囲むようにターゲットに垂直方向の磁界を発生する各ターゲットの外周に沿って設けられた永久磁石からなるスパッタユニットを備え、該磁界により該対向空間内にプラズマを拘束して、この対向空間の側方に配置した基板上に膜形成するようにした対向ターゲット式スパッタ装置において、各ターゲットの永久磁石の解放側の磁極を磁気的に結合するヨークを設けたことを特徴とする対向ターゲット式スパッタ装置。
IPC (2件)：
C23C14/34 ,  H01F41/18
FI (2件)：
C23C14/34 D ,  H01F41/18
Fターム (6件)：
4K029DC21 ,  4K029DC25 ,  4K029DC32 ,  4K029DC40 ,  4K029DC43 ,  5E049GC02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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