特許
J-GLOBAL ID：200903067527784452
対向ターゲット式スパッタ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-143590
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330936
出願日： 1997年06月02日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：
【要約】【課題】 投入電力を大きくしても膜質低下のない工業生産に適した対向ターゲット式スパッタ装置、及び生産性がよく、真空部分の容積が小さくてコンパクトな対向ターゲット式スパッタ装置。【解決手段】 対向ターゲット式スパッタ装置において、該ターゲット部の支持体をその真空側の前面にターゲットを取り付ける取付部と、該取付部に取り付けたターゲットの背面を冷却する冷却手段と、磁界発生手段の永久磁石を収納する収納部とを設けた一体構成とし、冷却手段により永久磁石も一体的に冷却するようにしたもの、およびターゲット部を箱型ターゲットユニットとし、基板を収納した真空槽ユニットと結合したユニット構成のもの。
請求項（抜粋）：
真空槽内に所定の間隔を隔てて一対のターゲットを対向配置し、該ターゲットの外周に沿って永久磁石からなる磁界発生手段を設けて該ターゲット間の対向空間を囲むようにプラズマ捕捉用磁界を形成して、該対向空間内にスパッタプラズマを生成し、該対向空間の側方に配置した基板上に薄膜形成するようにした対向ターゲット式スパッタ装置において、該ターゲットと該磁界発生手段とを真空槽の壁面に外部から一体的に取り外し・取り付けができる支持体に設けたユニット構成とし、支持体にその真空側の前面にターゲットを取り付ける取付部と、該取付部に取り付けたターゲットの背面を冷却する冷却手段と、真空槽内と隔壁で遮断されると共に取り付けられたターゲットの外周に沿う所定位置に前記磁界発生手段の永久磁石を収納する収納部とを設け、冷却手段により永久磁石も一体的に冷却するようにしたことを特徴とする対向ターゲット式スパッタ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/35 E
, C23C 14/34 D
