特許

J-GLOBAL ID：200903045954622516

シリカ中空粒子の製造方法

発明者： 藤 正督 ,  高橋 実 ,  武井 孝 ,  金村 聖志 ,  田辺 克幸 ,  星野 希宜 ,  三觜 幸平 ,  田上 直樹
出願人/特許権者： 国立大学法人 名古屋工業大学 ,  武井 孝 ,  金村 聖志 ,  日鉄鉱業株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 順之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-078417
公開番号（公開出願番号）：特開2006-256921
出願日： 2005年03月18日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】 製造装置及び周辺装置類がコンパクト化でき、使用済みの有機溶媒を排出することのない環境への負荷を低減できるシリカ殻からなる高分散性の中空粒子の製造方法の提供。【解決手段】 その製造方法は、水系媒質中にてコロイド状炭酸カルシウム、シリコンアルコキシド及び塩基触媒を混合し、コロイド状炭酸カルシウム表面にシリコンアルコキシドの加水分解反応により生成するシリカを析出させた後、酸処理により炭酸カルシウムを溶解させることを特徴とする。 得られた中空粒子は透過型電子顕微鏡法による一次粒子径が30〜300nm、動的光散乱法による粒子径が30〜800nm、水銀圧入法により測定される細孔分布において2〜20nmの細孔が検出されない緻密なシリカ殻からなる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

水系媒質中にて、コロイド状炭酸カルシウム、シリコンアルコキシド及び塩基触媒を混合し、コロイド状炭酸カルシウム表面に、シリコンアルコキシドの加水分解反応により生成するシリカを析出させた後、酸処理により炭酸カルシウムを溶解させることを特徴とするシリカ中空粒子の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 33/12

FI (1件)：

C01B33/12 Z

Fターム (15件)：

4G072AA25 ,  4G072BB16 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072GG01 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ23 ,  4G072JJ30 ,  4G072MM02 ,  4G072MM24 ,  4G072MM31 ,  4G072RR12 ,  4G072UU17 ,  4G072UU30

引用特許：

出願人引用 (10件)

• 中空シリカ粉末の分級法と低誘電率多層基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-241066   出願人：富士通株式会社
• 特開平58-77505号公報
  
• 特許第2590428号公報
  
• 特許第3419787号公報
  
• シリカ被覆アルミニウム顔料およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-276081   出願人：昭和アルミパウダー株式会社
• シリカ被覆樹脂粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-153050   出願人：藤倉化成株式会社
• 着色アルミニウム粉体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-237424   出願人：ぺんてる株式会社
• 特開平1-284583号公報
  
• 二酸化チタン顔料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-303666   出願人：石原産業株式会社
• 特許第2013985号公報
  

審査官引用 (1件)

• 高分散シリカナノ中空粒子及びそれを製造する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-077450   出願人：名古屋工業大学長