特許

J-GLOBAL ID：200903046033174174

露光装置

発明者： 山崎 俊洋
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-066683
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241849
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【目的】 鏡筒定盤の剛性やステージ定盤基準面の平面加工精度や経時変化が露光性能に直接影響せず、露光性能の高い露光装置を提供する。【構成】 原板上に形成されているパターンを投影レンズ4を介してステージ8上に載置された基板12に露光する露光装置において、前記ステージと構造が一体となっていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤3の下面と前記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器13,14と、該位置検出器の出力をフィードバックして前記ステージのZ方向目標位置にサーボをかける制御手段を設ける。

請求項（抜粋）：

原板上に形成されているパターンを投影レンズを介してステージ上に載置された基板に露光する露光装置において、前記ステージと構造が一体となっていて、前記投影レンズを保持する鏡筒定盤の下面と前記ステージ上面間の距離を計測する位置検出器を具備することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02

FI (4件)：

H01L 21/30 515 G ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 526 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 位置決め装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-047672   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭63-202019
  
• 特開平2-199813
  
• 特開平4-116818
  

審査官引用 (1件)

• 位置決め装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-047672   出願人：株式会社日立製作所