特許
J-GLOBAL ID：200903046049034364

エチニル基を有するジアリールエテン系化合物

発明者：
椛澤 誠

椛澤 誠 について

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石川 篤

石川 篤 について

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馬場崎 三枝

馬場崎 三枝 について

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小林 立也

小林 立也 について

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堀川 幸雄

堀川 幸雄 について


出願人/特許権者：
鐘紡株式会社

鐘紡株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-026183
公開番号（公開出願番号）：特開平9-071585
出願日： 1996年01月18日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【構成】下記一般式(1)にて示されるエチニル基を有するジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表し、Aは5-エチニル-3-チエニル基,または6-エチニル-3-ベンゾチエニル基を表し、Bは5-エチニル-3-チエニル基,インドリル基,チエニル基,6-エチニル-3-ベンゾチエニル基を表す。)【効果】熱安定性、耐湿性、感度に優れ、かつ着消色の繰り返し耐久性の良好なフォトクロミック性を有する、性能の優れた光記録材料、複写材料、超解像用マスキング材料、光変調素子材料等の可逆的光学材料などをうることができる。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)にて示されるジアリールエテン系化合物。【化1】(但し、式中nは2〜5の整数を表し、Aは一般式(2)または(5)を、Bは一般式(2)、(3)、(4)または、(5)のいずれか1つを表す。)【化2】【化3】【化4】【化5】(R1 、R4 、R5 、R10、R13はアルキル基を、R2 、R11は水素原子あるいはアルキル基を、R3 、R12、R17は水素原子、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基、アルコキシフェニル基、シアノフェニル基、ジアルキルアミノフェニル基、または置換あるいは未置換のチエニル基、インドリル基、ベンゾチエニル基、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基等のヘテロ環を表す。mは1または2の整数、R6 は水素原子、アルキル基、ジアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基またはアルコキシ基を、R7 〜R9 、R14〜R16は水素原子を表す。)
IPC (6件)：
C07D409/08 209 ,  C07D333/08 ,  C07D333/54 ,  C07F 7/12 ,  C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503
FI (6件)：
C07D409/08 209 ,  C07D333/08 ,  C07D333/54 ,  C07F 7/12 V ,  C09K 9/02 B ,  G03C 1/73 503
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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