特許

J-GLOBAL ID：200903046073701932

テクスチャー形成用エッチング液

発明者： 中里 悦郎 ,  赤塚 武 ,  五十嵐 俊一 ,  大西 力
出願人/特許権者： 直江津電子工業株式会社 ,  信越化学工業株式会社
代理人 (3件)： 細井 貞行 ,  長南 満輝男 ,  石渡 英房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-181129
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019605
出願日： 2003年06月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】均一性に優れた微細なピラミッド状凹凸部を容易に安定して再現するエッチング液の提供。【解決手段】水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムのベースに、リグニン、セルロース類、ケトン類、エステル類、グリコール類の中から一種か又は複数種を添加することにより、シリコン表面に均一で微細なピラミッド状凹凸部を安定して得られる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

液中でエッチングすることによりシリコン表面にピラミッド状凹凸部を形成するテクスチャー形成用エッチング液において、 水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムをベースとし、これに添加剤として、リグニン、セルロース類、ケトン類、エステル類、グリコール類の中から一種か又は複数種含有したことを特徴とするテクスチャー形成用エッチング液。

IPC (2件)：

H01L21/308 ,  H01L31/04

FI (2件)：

H01L21/308 B ,  H01L31/04 A

Fターム (8件)：

5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043FF04 ,  5F043FF10 ,  5F043GG10 ,  5F051AA02 ,  5F051GA15 ,  5F051HA07

引用特許：

審査官引用 (1件)

• シリコンのエッチング方法及びシリコン部材の製造方法並びにエッチングされた単結晶シリコン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-202017   出願人：日立電線株式会社