特許
J-GLOBAL ID：200903046101312572
フォトレジスト用高分子化合物及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-343762
公開番号（公開出願番号）：特開2002-145954
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 各モノマーユニットが偏在せず、分子間や分子内で組成分布の小さく、しかもエッチング耐性に優れたフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】 (A)式1、(B)式2又は3の少なくとも1種、(C)式4の置換基を有するアダマンタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを含む単量体混合物を共重合したフォトレジスト用高分子化合物。(R2、R12、R13は水素又は炭素数1〜3の炭化水素基。R14は炭素数6〜20の有橋脂環式炭化水素基。R16はメチル基等。R18、R19は、水素、ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基。但し、R18及びR19は同時に水素ではない。p、q、r及びsは0又は1。但し、p+q+r+s=2〜4)
請求項（抜粋）：
(A)下記式(1)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示す。R2は水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を示す。p、q、r及びsは、それぞれ独立に、0又は1を示す。但し、p+q+r+s=2〜4である)で表される5〜7員のラクトン環を有する(メタ)アクリル酸エステル、(B)下記式(2)【化2】(式中、R11は水素原子又はメチル基を示す。R12及びR13は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示す。R14は炭素数6〜20の有橋脂環式炭化水素基を示す。tは0〜5の整数を示す)で表される有橋脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル、及び下記式(3)【化3】(式中、R15は水素原子又はメチル基を示す。R16はメチル基又はエチル基を示す)で表されるアダマンタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルから選択された少なくとも1種の(メタ)アクリル酸エステル、及び(C)下記式(4)【化4】(式中、R17は水素原子又はメチル基を示す。R18及びR19は、アダマンタン環に結合している置換基であり、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基を示す。但し、R18及びR19の少なくとも一方は、ヒドロキシル基、オキソ基又はカルボキシル基である)で表される置換基を有するアダマンタン環を有する(メタ)アクリル酸エステルの3種の(メタ)アクリル酸エステルを少なくとも含む単量体混合物を共重合して得られるフォトレジスト用高分子化合物。
IPC (5件)：
C08F220/28
, C08K 5/00
, C08L 33/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08F220/28
, C08K 5/00
, C08L 33/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB51
, 2H025FA17
, 4J002BG071
, 4J002EB106
, 4J002EQ036
, 4J002EV296
, 4J002GP03
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03R
, 4J100BA16R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC27Q
, 4J100BC53P
, 4J100CA05
, 4J100DA01
, 4J100DA39
, 4J100JA38
