特許

J-GLOBAL ID：200903046149083451

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

発明者： 岩崎 正興 ,  山崎 清 ,  新庄 博文
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-113218
公開番号（公開出願番号）：特開2007-283207
出願日： 2006年04月17日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

【課題】硫黄による被毒を十分に抑制することが可能な高度な耐硫黄被毒性を発揮しつつ、高温雰囲気下に長時間曝された場合においても貴金属の粒成長を十分に抑制することができ、長期に亘り高度なNOx浄化活性を維持することが可能な排ガス浄化用触媒及びその製造方法を提供すること。【解決手段】セリウム、プラセオジム、ランタン、ジルコニウム、マグネシウム及びカルシウムからなる群から選択される少なくとも一種の金属の酸化物を含む塩基性酸化物担体1と、塩基性酸化物担体1に担持された貴金属2と、塩基性酸化物担体1に担持されたNOx吸蔵材3と、塩基性酸化物担体1の表面の貴金属2及びNOx吸蔵材3が担持されていない露出面に形成されたケイ素及び/又はチタンの酸化物からなる酸化物被覆層4とを含むことを特徴とする排ガス浄化用触媒。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

セリウム、プラセオジム、ランタン、ジルコニウム、マグネシウム及びカルシウムからなる群から選択される少なくとも一種の金属の酸化物を含む塩基性酸化物担体と、前記塩基性酸化物担体に担持された貴金属と、前記塩基性酸化物担体に担持されたNOx吸蔵材と、前記塩基性酸化物担体の表面の前記貴金属及び前記NOx吸蔵材が担持されていない露出面に形成されたケイ素及び/又はチタンの酸化物からなる酸化物被覆層とを含むことを特徴とする排ガス浄化用触媒。

IPC (7件)：

B01J 23/58 ,  B01J 37/03 ,  B01J 37/02 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/28

FI (7件)：

B01J23/58 A ,  B01J37/03 A ,  B01J37/02 101E ,  B01D53/36 102B ,  F01N3/10 A ,  F01N3/08 A ,  F01N3/28 301P

Fターム (80件)：

3G091AA12 ,  3G091AB06 ,  3G091AB09 ,  3G091BA11 ,  3G091BA39 ,  3G091GA16 ,  3G091GB05W ,  3G091GB10X ,  3G091GB16X ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA01Y ,  4D048BA02Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA08X ,  4D048BA14X ,  4D048BA15X ,  4D048BA18Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33X ,  4D048BA34Y ,  4D048BA41Y ,  4D048BA42X ,  4D048BB01 ,  4D048BB02 ,  4D048BC01 ,  4D048BC05 ,  4D048EA04 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA06A ,  4G169BA20A ,  4G169BA21C ,  4G169BA47A ,  4G169BB04A ,  4G169BB06A ,  4G169BB08C ,  4G169BC03B ,  4G169BC04B ,  4G169BC09A ,  4G169BC10A ,  4G169BC13B ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC42A ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC44A ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC69A ,  4G169BC71B ,  4G169BC75B ,  4G169BD12C ,  4G169BE06C ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02Y ,  4G169EA18 ,  4G169ED07 ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FA03 ,  4G169FB08 ,  4G169FB14 ,  4G169FB15 ,  4G169FB30 ,  4G169FC02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 排気ガス浄化用触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-291780   出願人：トヨタ自動車株式会社, キャタラー工業株式会社
• 排ガス浄化用触媒及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-192060   出願人：トヨタ自動車株式会社
• 排ガス浄化用触媒の再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-009810   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 排ガス浄化用触媒の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-263061   出願人：株式会社豊田中央研究所