特許

J-GLOBAL ID：200903046213593701

渦動焼結法で金属表面を被覆するためのポリアミド粉末およびこのような粉末を基礎とする渦動焼結被覆

発明者： ディルク ハインリヒ ,  ハインツ ショルテン
出願人/特許権者： デグサ アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-199813
公開番号（公開出願番号）：特開2004-051989
出願日： 2003年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】極めて均一で薄い被覆を可能にする、薄層渦動焼結法のためのポリアミド渦動焼結粉末を開発する。【解決手段】ポリアミド粉末は、20〜90μmの平均粒径d50を有し、5μm未満の微細含量が1%未満であり、球面状粒子を少なくとも75%有し、この場合、全部で3つの空間軸線x、yおよびzにおける粒子が±10%の同じ大きさを有する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

渦動焼結法で金属表面を被覆するためのポリアミド粉末において、 - この粉末が20〜90μmの平均粒径d50を有し、 - 5μm未満の微細含量が1%未満であり、 - 粉末が球面状粒子を少なくとも75%有し、この場合 - 全部で3つの空間軸線x、yおよびzにおける粒子が±10%の同じ大きさを有することを特徴とする、渦動焼結法で金属表面を被覆するためのポリアミド粉末。

IPC (3件)：

C09D177/00 ,  C09D5/03 ,  C23C26/00

FI (3件)：

C09D177/00 ,  C09D5/03 ,  C23C26/00 A

Fターム (8件)：

4J038DH001 ,  4J038GA06 ,  4J038GA09 ,  4J038PA02 ,  4J038PC02 ,  4K044AA01 ,  4K044BA21 ,  4K044CA25

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 狭い粒度分布および低い多孔度を有するポリアミドの沈殿粉末の製造方法および該沈殿粉末の使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-051955   出願人：ヒユールスアクチエンゲゼルシヤフト
• 球状ポリアミドおよびその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-038938   出願人：宇部興産株式会社