特許
J-GLOBAL ID：200903046234461619

フォトマスク用合成石英ガラス基板及びその製造方法

発明者：
柴野 由紀夫

柴野 由紀夫 について

, 
大塚 久利

大塚 久利 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141213
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330263
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【解決手段】 中心部に比較して外周部の水酸基含有量が高い合成石英ガラス部材をアニール処理することにより得られる合成石英ガラスからなることを特徴とするフォトマスク用合成石英ガラス基板。上記フォトマスク用合成石英ガラス基板は、中心部に比較して外周部の水酸基含有量が高い合成石英ガラス部材をアニール処理した後、局部的に特性が変化している外周部分を研削除去後、板状に切断し、次いで面取り後の基板をエッチングすることにより製造できる。【効果】 本発明の合成石英ガラス基板は、複屈折が極めて少なく、フォトマスクとして、特に反射光学系の露光装置を使用した場合においてもウェーハ上での露光光強度を均一にでき、ウェーハ面内で均一な光強度が得られ、パターニング精度向上を図ることができ、フォトマスクとして幅広く使用することができる。本発明の製造方法によれば、上記合成石英ガラス基板を工業的に有利に製造することができる。
請求項（抜粋）：
中心部に比較して外周部の水酸基含有量が高い合成石英ガラス部材をアニール処理することにより得られる合成石英ガラスからなることを特徴とするフォトマスク用合成石英ガラス基板。
IPC (3件)：
G03F 1/14 ,  C03B 20/00 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 1/14 B ,  C03B 20/00 ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (2件)：
2H095BC27 ,  4G014AH15
引用特許：
審査官引用 (10件)
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