特許
J-GLOBAL ID:200903087919651257
紫外線照射による緻密化が抑制された石英ガラス部材
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-164039
公開番号(公開出願番号):特開平9-012323
出願日: 1995年06月29日
公開日(公表日): 1997年01月14日
要約:
【要約】【目的】 紫外線照射による屈折率の上昇や歪の発生、表面の凹みが抑制された石英ガラス光学部材を提供する。【構成】 OH基濃度が200ppm以下であって、紫外線照射による構造の緻密化が抑制された石英ガラス光学部材を、ステッパ等の紫外線光学系に用いる。
請求項(抜粋):
OH基濃度が200ppm以下である石英ガラス部材であって、400nm以下の特定波長領域の紫外線照射による構造の緻密化が抑制されたことを特徴とする石英ガラス光学部材。
IPC (3件):
C03B 20/00
, G03F 1/14
, H01L 21/027
FI (3件):
C03B 20/00
, G03F 1/14 B
, H01L 21/30 515 D
引用特許:
審査官引用 (5件)
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エキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-190143
出願人:信越化学工業株式会社, 信越石英株式会社
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特開平3-101282
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特開平3-088742
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特開平3-101282
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特開平3-088742
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