特許

J-GLOBAL ID：200903046258826782

マイクロ波プラズマCVD装置

発明者： 越前 裕 ,  杉山 秀一郎 ,  金井 正博 ,  安達 俊男 ,  小金井 昭雄 ,  藤岡 靖 ,  芳里 直 ,  岡部 正太郎 ,  酒井 明 ,  吉野 豪人
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005240
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216039
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 マイクロ波を用いた成膜装置において、マイクロ波導入窓上に成膜することを防止し、プラズマを安定的に長時間維持できるとともに量産することが可能な成膜装置を提供すること。【構成】 マイクロ波電力投入手段、原料ガス供給手段、排気手段、および成膜室を備えるマイクロ波プラズマCVD装置において、マイクロ波導入窓のプラズマに晒される面上に、マイクロ波透過性部材で構成された多柱状構造体を配設し、該各柱状構造体の対称軸が、プラズマに晒される面に対して垂直である。

請求項（抜粋）：

マイクロ波電力投入手段、原料ガス供給手段、排気手段、および成膜室を備えるマイクロ波プラズマCVD装置において、マイクロ波導入窓のプラズマに晒される面上に、マイクロ波透過性部材で構成された多柱状構造体を配設し、該各柱状構造体の対称軸が、プラズマに晒される面に対して垂直であることを特徴とする防着構造付マイクロ波プラズマCVD装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (7件)

• 特開平3-104888
  
• 特開平3-122273
  
• 特開平4-164317
  
• ガス供給装置およびそれを備えたマイクロ波プラズマ成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-245493   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-030419
  
• 特開平3-030420
  
• 特開平4-181720