炭酸ガス含有濃度制御が可能な炭酸ガス含有殺菌水生成方法および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-139507
公開番号（公開出願番号）：特開2006-320899
出願日： 2006年04月18日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：

【課題】次亜塩素酸や亜塩素酸を主成分とする弱酸性の殺菌水を生成する場合、殺菌水中に炭酸ガスを溶解して、適切な炭酸ガス溶解濃度にした殺菌水の生成方法及び装置の提供。【解決手段】次亜塩素酸水溶液や亜塩素酸水溶液を希釈した殺菌水を、少なくとも2本の管路に分け、一方の管路を介して炭酸ガスを充填した圧力容器13内に殺菌水を噴射および/または散水し、もう一方の管路を介して圧力容器内に殺菌水を単に送水し、それぞれの管路に送水される殺菌水の流量を調整することにより、溶解する炭酸ガスの濃度を制御する。このため、炭酸ガスを溶解するための噴射工程と送水工程の上記管路の水量を自在に調整することで、炭酸ガスの溶解量を制御する方法であり、アキュームレイター機能とpHを安定させるために必要な適切な量の炭酸ガス溶解を同時に達成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

次亜塩素酸ナトリウム水溶液や亜塩素酸ナトリウム水溶液を水道水や井水や海水などで希釈した後に、炭酸ガスを溶解して所定の塩素濃度およびpHの殺菌水を生成する方法。

IPC (6件)：

C02F 1/50 , B01F 1/00 , B01F 5/18 , C02F 1/46 , B01F 15/02 , C02F 1/76

FI (17件)：

C02F1/50 520B , B01F1/00 B , B01F5/18 , C02F1/50 510A , C02F1/50 520F , C02F1/50 531J , C02F1/50 531K , C02F1/50 531P , C02F1/50 540A , C02F1/50 540B , C02F1/50 550C , C02F1/50 550L , C02F1/50 532C , C02F1/46 Z , B01F15/02 A , C02F1/46 A , C02F1/76 A

Fターム (34件)：

4D050AA02 , 4D050AA04 , 4D050AA06 , 4D050AB06 , 4D050BB04 , 4D050BB06 , 4D050BC10 , 4D050BD02 , 4D050BD03 , 4D050BD04 , 4D050BD06 , 4D050BD08 , 4D061DA02 , 4D061DA03 , 4D061DA08 , 4D061DA09 , 4D061DB07 , 4D061DB10 , 4D061EA02 , 4D061EB12 , 4D061EB14 , 4D061EB37 , 4D061ED12 , 4D061ED13 , 4D061FA10 , 4D061FA11 , 4D061GA02 , 4D061GA14 , 4G035AA07 , 4G035AC37 , 4G035AE02 , 4G035AE13 , 4G037AA01 , 4G037EA10

引用特許：

審査官引用 (2件)

殺菌液保存方法及び殺菌用容器並びにこれに用いられる開閉弁付きノズル
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-365552 出願人：岡崎龍夫, ヴィータ株式会社
弱酸性の塩素系殺菌水の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-164856 出願人：ホシザキ電機株式会社

前のページに戻る