特許
J-GLOBAL ID:200903046405319263

容器等の倣い研摩装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木下 茂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-275221
公開番号(公開出願番号):特開平11-090807
出願日: 1997年09月22日
公開日(公表日): 1999年04月06日
要約:
【要約】【課題】 石英製のベルジャーなどのような脆弱な製品の表面を一様に研摩することが可能な倣い研摩装置を提供すること。【解決手段】 XZテーブル30によって駆動されるアーム31には、研摩ユニット32が着脱自在に装着されている。ターンテーブル23に対してベルジャーなどのワーク11がセンターリングされて固定されており、ワーク11に対して研摩ユニット32が一定の押し当てトルクをもって接触し、ワーク表面を研摩するように構成されている。研摩ユニット32には、例えばロータリエンコーダが配置されて、研摩ユニット32の変位角をXZテーブル30の駆動機構にフィードバックするように構成されており、これによりワーク11に多少の変形があってもXZテーブル30が駆動され、確実な倣い研摩を実行することができる。
請求項(抜粋):
研摩ユニットを装着したアームを少なくともXZ方向に位置決め制御するXZテーブルと、前記研摩ユニットによってその表面が研摩されるワークを載置固定するためのターンテーブルとが具備され、前記研摩ユニットは、工具支点軸を介して所定の加工アーム長L1をもって研摩工具をワーク表面に対して接触できるように構成され、かつ前記工具支点軸において一定のトルクをもつてワークに対して加圧力を付与する加圧力付与手段を備えていることを特徴とする容器等の倣い研摩装置。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 金型みがき装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-334390   出願人:ダイキン工業株式会社
  • 特開平4-164561
  • ウェーハのセンタリング装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-294386   出願人:信越半導体株式会社

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