特許
J-GLOBAL ID:200903046416473850

太陽電池およびその製造方法、並びに多層薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-310981
公開番号(公開出願番号):特開平7-240531
出願日: 1994年12月14日
公開日(公表日): 1995年09月12日
要約:
【要約】【目的】 安価で変換効率の高い太陽電池を得る。【構成】 ガラス製透明基板251に透明電導膜252を形成し、その上にアモルファス状に形成すると同時に指向性の高いNe原子流を各半導体層212,214に照射することによって、各入射方向に垂直に最稠密面が配向するよう単結晶化してp型の第1の半導体層253を形成する。この際、第1の半導体層253を可及的に薄く形成し、光透過性を上げる。その上にアモルファス系の真性半導体層255を形成し、さらにアモルファス系または結晶系のn型の第2の半導体層254を形成する。主に長波長光は第1の半導体層253で吸収し、短波長光は真性半導体層255で吸収する。第1の半導体層253が単結晶であるため、少数担体の吸収が少なく変換効率が向上する。【効果】 変換効率が高く、しかも安価に製造可能である。
請求項(抜粋):
基板と、該基板の上面側に該基板と異なる材料で形成された第1導電型の第1の半導体膜と、該第1の半導体膜に接続される第1の電極と、前記第1の半導体膜の上面に形成された第2導電型の第2の半導体膜と、該第2の半導体膜側に接続される第2の電極とを備え、前記第1の半導体膜および第2の半導体膜は単結晶膜で構成されたことを特徴とする太陽電池。
IPC (2件):
H01L 31/04 ,  H01L 21/20
FI (3件):
H01L 31/04 A ,  H01L 31/04 X ,  H01L 31/04 E
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 薄膜光起電力装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-264852   出願人:旭化成工業株式会社
  • 特開昭64-051671
  • 特開昭58-127386
全件表示

前のページに戻る