特許
J-GLOBAL ID：200903046451132836

基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法

発明者：
植木 慎介

植木 慎介 について

, 
西部 幸伸

西部 幸伸 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-062120
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273743
出願日： 2003年03月07日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】この発明は基板を混合加圧流体によって高い精度で洗浄することができるようにした基板の洗浄処理装置を提供することにある。【解決手段】一端に上記基板が搬入される搬入口が形成され他端に上記搬入口2から搬入された基板を搬出する搬出口3が形成されたチャンバ1と、このチャンバ内に設けられ搬入された基板の上面の搬送方向と交差する幅方向に沿って処理液をカーテン状に供給する液体ナイフ7と、上記チャンバ内の上記液体ナイフよりも上記基板の搬送方向の下流側に設けられ上記液体ナイフによって処理液が供給された上記基板の上面に処理液と加圧気体とを混合した混合加圧流体を噴射する混合ノズル体8と、上記チャンバ内に設けられこのチャンバ内を搬送される上記基板の上記液体ナイフから処理液が供給される部分を上記混合ノズル体によって混合加圧流体が供給される部分と隔別する遮蔽体11とを具備する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を洗浄処理する洗浄処理装置において、 一端に上記基板が搬入される搬入口が形成され他端に上記搬入口から搬入された基板を搬出する搬出口が形成されたチャンバと、 このチャンバ内に設けられ搬入された基板の上面の搬送方向と交差する幅方向に沿って処理液をカーテン状に供給する液体ナイフと、 上記チャンバ内の上記液体ナイフよりも上記基板の搬送方向の下流側に設けられ上記液体ナイフによって処理液が供給された上記基板の上面に処理液と加圧気体とを混合した混合加圧流体を噴射する混合ノズル体と、 上記チャンバ内に設けられこのチャンバ内を搬送される上記基板の上記液体ナイフから処理液が供給される部分を上記混合ノズル体によって混合加圧流体が供給される部分と隔別する遮蔽体と を具備したことを特徴とする基板の洗浄処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/304 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/68
FI (6件)：
H01L21/304 643B ,  H01L21/304 643C ,  B65G49/06 Z ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/68 A
Fターム (11件)：
2H088FA17 ,  2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H090HC18 ,  2H090JC19 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031GA53 ,  5F031MA23 ,  5F031PA30
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-305867   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-310543   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 剥離装置および剥離方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-104935   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

前のページに戻る

TOP

BOTTOM