特許

J-GLOBAL ID：200903046465029000

置換芳香族化合物の製造方法

発明者： 昇 忠仁 ,  藤吉 節子 ,  原 烈 ,  林 貴臣 ,  柴原 敦 ,  船木 克彦 ,  水谷 一美 ,  清野 真二
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-122839
公開番号（公開出願番号）：特開2002-003427
出願日： 2001年04月20日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、芳香族ハロゲン化合物に対して有効な核置換反応剤を見出し、それを用いて温和な条件下でしかも高い収率で置換芳香族化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 式(1)【化1】(式中、Q-は無機酸から、または酸素原子、窒素原子もしくは硫黄原子上に活性水素を有する活性水素化合物から、プロトンが離脱して導かれる形のアニオンである。a〜dは1または0で、全てが同時に0ではない。Rは、炭素数1ないし10個の炭化水素基を表すか、またはRが互いに結合して窒素原子と共に環を形成していてもよい。)で表されるホスファゼニウム化合物と、芳香族ハロゲン化合物とを反応させて、少なくとも1つのハロゲン原子を、Qで置換して置換芳香族化合物を得る。

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】(式中、Q-は無機酸から、または酸素原子、窒素原子もしくは硫黄原子上に活性水素を有する活性水素化合物から、プロトンが離脱して導かれる形のアニオンである。a、b、cおよびdはそれぞれ1または0であるが、全てが同時に0ではない。Rは、すべてが同一でも互いに異なっていてもよく、それぞれ独立して、炭素数1ないし10個の炭化水素基を表すか、または同一窒素原子上の2個のRが互いに結合して窒素原子と共に環を形成していてもよい。)で表されるホスファゼニウム化合物と、ハロゲン原子を有する芳香族ハロゲン化合物とを反応させて、この芳香族ハロゲン化合物中の少なくとも1つのハロゲン原子をQ(但し、Qは式(1)中のQ-から電子が1個離脱して導かれる形の無機基または有機基である。)で置換させることを特徴とするQで置換された置換芳香族化合物の製造方法。

IPC (22件)：

C07C 41/14 ,  C07C 17/20 ,  C07C 25/13 ,  C07C 37/02 ,  C07C 39/04 ,  C07C 43/205 ,  C07C 45/63 ,  C07C 49/813 ,  C07C 67/10 ,  C07C 69/78 ,  C07C201/12 ,  C07C205/11 ,  C07C209/62 ,  C07C211/48 ,  C07C253/14 ,  C07C255/50 ,  C07C319/14 ,  C07C321/28 ,  C07C321/30 ,  C07C331/08 ,  C07D209/44 ,  C07B 61/00 300

FI (22件)：

C07C 41/14 ,  C07C 17/20 ,  C07C 25/13 ,  C07C 37/02 ,  C07C 39/04 ,  C07C 43/205 A ,  C07C 45/63 ,  C07C 49/813 ,  C07C 67/10 ,  C07C 69/78 ,  C07C201/12 ,  C07C205/11 ,  C07C209/62 ,  C07C211/48 ,  C07C253/14 ,  C07C255/50 ,  C07C319/14 ,  C07C321/28 ,  C07C321/30 ,  C07C331/08 ,  C07D209/44 ,  C07B 61/00 300

Fターム (35件)：

4C204AB01 ,  4C204BB04 ,  4C204CB03 ,  4C204DB01 ,  4C204EB01 ,  4C204FB03 ,  4C204GB14 ,  4H006AA02 ,  4H006AC30 ,  4H006AC42 ,  4H006AC43 ,  4H006AC44 ,  4H006AC48 ,  4H006AC51 ,  4H006AC52 ,  4H006AC54 ,  4H006AC60 ,  4H006AC63 ,  4H006BA53 ,  4H006BE61 ,  4H006BJ50 ,  4H006EA21 ,  4H006FC52 ,  4H006FE13 ,  4H006GN08 ,  4H006GP03 ,  4H006GP22 ,  4H006KA14 ,  4H006QN14 ,  4H006TA04 ,  4H006TB14 ,  4H006TN90 ,  4H039CA51 ,  4H039CD20 ,  4H039CL60

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第791600号
  
• ホスファゼニウム塩およびその製造方法ならびにポリアルキレンオキシドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-339699   出願人：三井東圧化学株式会社
• テトラキス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]ホスホニウムクロリドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-318385   出願人：三井化学株式会社
• ポリアルキレンオキシドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-091081   出願人：三井化学株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Extrem reaktive organische Fluorid-Salze-Synthese und Anwendungen
• Stabile organische Kationen-hochreaktive organishe Fluorid-Salze-Synthese und Anwendungen