特許
J-GLOBAL ID：200903067975047787
ポリアルキレンオキシドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-091081
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281771
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：
【要約】【課題】アルキレンオキシド化合物を重合させてポリアルキレンオキシドを製造する際に、金属成分を含まず臭気を残留させない開始剤系を用いてポリアルキレンオキシドを簡便かつ効率的に製造する方法を提供することである。【解決手段】対アニオンをOH-イオンとして計算化学的に求めた最大静電ポテンシャルが 260kJ/mol以下となるホスファゼニウムカチオンと活性水素化合物から導かれたアニオンからなるホスファゼニウム塩の存在下にアルキレンオキシド化合物を重合させることを特徴とするポリアルキレンオキシドの製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式【化1】(但し、式中、Rはそれぞれ独立に水素、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロ原子を含む脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基であり、Bn-は活性水素化合物から導かれるアニオンの群から選ばれる少なくとも1種であり、nは整数である。a、b、c、dは0以上の整数であり、すべてが同一であっても異なる値であってもよい。)で表わされるホスファゼニウム塩であり、かつホスファゼニウムカチオンの対アニオンをOH-として計算化学的に求めた最大静電ポテンシャルの値が260kJ/mol以下となるホスファゼニウム塩の少なくとも1種の存在下にアルキレンオキシド化合物を付加重合させることを特徴とするポリアルキレンオキシドの製造方法。
Fターム (2件)：
引用特許：
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