特許

J-GLOBAL ID：200903046466588887

フィルタエレメント及び当該フィルタエレメントを製造するための方法

発明者： ホフマン ウィルフレイド
出願人/特許権者： エンエフテー・ナノフィルターテヒニク・ゲゼルスシャフト・ミット・ペシュレンクテル・ハフツング
代理人 (1件)： 龍華 明裕
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-518100
公開番号（公開出願番号）：特表2009-513317
出願日： 2004年07月03日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：

【課題】長い耐用年数にわたって、高い処理量を有し、圧力変動を含む圧力負荷に耐えるとともに、機械的に安定しているメンブランフィルタを提供する。【解決手段】フィルタエレメントは、複数の穿孔を有するメンブレン層とキャリア層とを有する。 キャリア層において、膜チャンバが露出し、メンブレン層は膜チャンバ上に広がる。メンブレン層は、開始材料の強度よりも高められた強度を有する、圧縮され、且つ/又は少なくとも部分的に結晶性の構造を有する。

請求項（抜粋）：

フィルタエレメントを製造するための方法であって、 S1)キャリア基板にメンブレン層を被着するステップと、 S2)前記キャリア基板の、前記メンブレン層と反対側に、前記キャリア基板の残留層が依然として残されるように膜チャンバをエッチングするステップと、 S3)孔あけされた膜を形成するべく、リソグラフィ及びエッチング工程によって、前記メンブレン層内に細孔を形成するステップと、 S4)前記メンブレン層を露出させるべく、エッチングによって前記残留層を除去するステップと、 S5)前記ステップS1中に、又は後続のステップにおいて、前記メンブレン層をさらに処理して、機械的強度を高めるステップと を含む、フィルタエレメントを製造するための方法。

IPC (6件)：

B01D 69/12 ,  B01D 69/00 ,  B01D 71/02 ,  B01D 69/06 ,  B01D 39/20 ,  C23C 16/42

FI (6件)：

B01D69/12 ,  B01D69/00 ,  B01D71/02 ,  B01D69/06 ,  B01D39/20 D ,  C23C16/42

Fターム (29件)：

4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MB16 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006NA39 ,  4D006NA46 ,  4D006NA47 ,  4D006NA50 ,  4D006NA54 ,  4D006NA63 ,  4D006NA65 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB08 ,  4D019BA02 ,  4D019BA05 ,  4D019BA06 ,  4D019BB06 ,  4D019BB08 ,  4D019BD01 ,  4D019CB06 ,  4K030BA37 ,  4K030BA40 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ナノメートルスケールの細孔のある膜を形成するための装置及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-538280   出願人：ザ・リージェンツ・オブ・ザ・ユニバーシティー・オブ・カリフォルニア
• 微小多孔性フィルター膜、微小多孔性フィルター膜を作製するための方法、および微小多孔性フィルター膜を使用する分離器
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-543243   出願人：バクスター・インターナショナル・インコーポレイテッド