特許
J-GLOBAL ID:200903046483594220
磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤村 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-409351
公開番号(公開出願番号):特開2004-155652
出願日: 2003年12月08日
公開日(公表日): 2004年06月03日
要約:
【課題】 簡便な方法及び装置でガラス基板の内周端面及び/又は外周端面を平滑に研磨でき、ガラス基板表面の高清浄化を高いレベルで達成しうる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法等を提供する。【解決手段】 中心部に円孔を有する円板状のガラス基板(MD基板1)の内周端面、及び外周面に面取り加工を行う工程、その端面を研磨する工程、ガラス基板の主面を研磨する工程、ガラス基板を化学強化処理する工程をこの順で含み、前記ガラス基板の端面を研磨する工程は、前記ガラス基板を複数枚積み重ね、前記ガラス基板の内周端面に蛇行形にカールさせたブラシ毛を有する研磨ブラシ(回転ブラシ4)を回転接触させて研磨する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
中心部に円孔を有する円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス基板の外周端面及び内周端面に面取り加工を行う工程、前記面取り加工されたガラス基板の端面を研磨する工程、ガラス基板の主表面を研磨する工程、ガラス基板を化学強化処理する工程をこの順で含み、
前記ガラス基板の端面を研磨する工程は、前記ガラス基板を複数枚積み重ね、前記ガラス基板の内周端面部分に、遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、回転軸を備えて回転している研磨ブラシ又は研磨パッドを接触させて研磨する工程を含むことを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
IPC (4件):
C03C19/00
, C03C21/00
, G11B5/73
, G11B5/84
FI (4件):
C03C19/00 Z
, C03C21/00 101
, G11B5/73
, G11B5/84 Z
Fターム (17件):
4G059AA09
, 4G059AB01
, 4G059AB05
, 4G059AB11
, 4G059AC03
, 4G059AC16
, 4G059HB13
, 4G059HB14
, 4G059HB23
, 5D006CB04
, 5D006CB07
, 5D006DA03
, 5D112AA02
, 5D112AA24
, 5D112BA03
, 5D112BA09
, 5D112GA10
引用特許:
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