窓型プローブ、プラズマ監視装置、及び、プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：眞鍋潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-122240
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318115
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：

【要約】【課題】窓型プローブ、プラズマ監視装置、及び、プラズマ処理装置に関し、高周波或いは高電圧の印加によって発生させたプラズマの状態を直接、簡便に検出する。【解決手段】プラズマに対向する面の少なくとも一部に開口部が設けられた導電性支持部材5と、前記導電性支持部材5の開口部に設置された片側表面にプローブ電極2を有する誘電体部材1とを少なくとも設ける。

請求項（抜粋）：

プラズマに対向する面の少なくとも一部に開口部が設けられた導電性支持部材と、前記導電性支持部材の開口部に設置された片側表面にプローブ電極を有する誘電体部材とを少なくとも有することを特徴とする窓型プローブ。

IPC (5件)：

H01L 21/205 , C23C 14/34 , C23C 16/52 , H01L 21/3065 , H05H 1/00

FI (5件)：

H01L 21/205 , C23C 14/34 U , C23C 16/52 , H05H 1/00 A , H01L 21/302 103

Fターム (19件)：

4K029DA03 , 4K029EA06 , 4K029EA09 , 4K030FA03 , 4K030JA17 , 4K030KA30 , 4K030KA37 , 4K030KA39 , 5F004AA16 , 5F004BA04 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004CB05 , 5F045AA08 , 5F045BB20 , 5F045EB02 , 5F045EC01 , 5F045EC03 , 5F045GB08

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマ処理方法、プラズマ処理装置およびプラズマモニタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-246175 出願人：株式会社東芝
プラズマ処理装置およびその制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-284210 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-048934 出願人：株式会社日立製作所

全件表示

前のページに戻る