特許
J-GLOBAL ID:200903046489972803

光デバイス用高分子光学材料、高分子光デバイス及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-066864
公開番号(公開出願番号):特開2000-338344
出願日: 2000年03月10日
公開日(公表日): 2000年12月08日
要約:
【要約】【課題】 透明性・耐熱性を満足し、且つ従来高耐熱性と両立が困難であった加工性を同時に満足させる光デバイス用高分子光学材料、これを用いた高分子光デバイス及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ポリアリレートからなる光デバイス用高分子光学材料であって、ポリアリレートが下記一般式II及び/または式IIIで表される構造単位からなることを特徴とする光デバイス用高分子光学材料。【化1】(式中、R3、R4は各々独立に炭素数1〜4のアルキル基からなる群より選ばれ、r,sは0〜4の整数を表す。)【化2】
請求項(抜粋):
ポリアリレートからなる光デバイス用高分子光学材料であって、ポリアリレートが下記一般式Iで示される構造単位からなるポリアリレートであることを特徴とする光デバイス用高分子光学材料。【化1】(式中、R1,R2は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基及びニトロ基からなる群より選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基及び炭素数6〜20の芳香族基からなる群より選ばれ、Xは単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルキリデン基、シクロアルキレン基、シクロアルキリデン基、ハロ置換アルキレン基、ハロ置換アルキリデン基、フェニルアルキリデン基、置換フェニルアルキリデン基、カルボニル基、スルホニル基、カルボキシルアルキレン基、カルボキシルアルキリデン基、アルコキシカルボニルアルキレン基、アルコキシカルボニルアルキリデン基、フルオレン基、イサチン基、アルキルシラン基及びジアルキルシラン基からなる群より選ばれ、p,qは0〜4の整数を表す。)
IPC (5件):
G02B 6/12 ,  C08G 63/19 ,  C08J 7/00 CFD ,  C08J 7/00 302 ,  C08L 67:03
FI (4件):
G02B 6/12 N ,  C08G 63/19 ,  C08J 7/00 CFD ,  C08J 7/00 302
Fターム (14件):
2H047QA05 ,  2H047TA00 ,  4F073AA21 ,  4F073AA32 ,  4F073BA25 ,  4F073BB01 ,  4F073CA42 ,  4J029AA04 ,  4J029AB01 ,  4J029AC01 ,  4J029AE04 ,  4J029BB18 ,  4J029CB05A ,  4J029CB06A
引用特許:
審査官引用 (24件)
  • 特開平3-168211
  • 特開平3-028222
  • 特開平3-155502
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引用文献:
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