特許

J-GLOBAL ID：200903034349570286

ポリイミド光導波路製造装置及びポリイミド光導波路の製造方法

発明者： 丸尾 容子 ,  佐々木 重邦 ,  玉村 敏昭
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 中本 宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-014093
公開番号（公開出願番号）：特開平7-209536
出願日： 1994年01月13日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】 電子線描画方法を用いポリイミド光導波路を製造する時に、描画のつなぎ目のない導波路を製造する装置及び方法を提供する。【構成】 試料台上のポリイミドに電子線を照射し、光導波路のコア部を作製するためのポリイミド光導波路製造装置において、少なくとも前記コア部のコア幅と同じ大きさの直径を有する電子線を発生する電子線発生源を有するポリイミド光導波路製造装置。前記装置で、前記試料台を移動する手段を有する装置。ポリイミドに電子線を照射し、光導波路のコア部を作製するポリイミド光導波路製造方法において、前記ポリイミドを試料台上に固定し、前記電子線幅を前記コア部の幅と同一の幅に設定し、電子線を走引するか、試料台を移動することによりコア部を作製するポリイミド光導波路製造方法。

請求項（抜粋）：

試料台上のポリイミドに電子線を照射し、光導波路のコア部を作製するためのポリイミド光導波路製造装置において、少なくとも前記コア部のコア幅と同じ大きさの直径を有する電子線を発生する電子線発生源を有することを特徴とするポリイミド光導波路製造装置。

IPC (3件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/12 ,  G03F 7/038 504

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 導波路作成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-341152   出願人：住友電気工業株式会社